- Sections
- H - électricité
- H05H - Technique du plasma; production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutrons; production ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 7/06 - Dispositions à deux faisceaux; Dispositions multifaisceaux
Détention brevets de la classe H05H 7/06
Brevets de cette classe: 32
Historique des publications depuis 10 ans
4
|
2
|
3
|
3
|
3
|
2
|
1
|
3
|
2
|
0
|
2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
---|---|---|
ASML Netherlands B.V. | 6816 |
5 |
Jefferson Science Associates, LLC | 106 |
3 |
Tsinghua University | 5426 |
2 |
Oxford University Innovation Limited | 1421 |
2 |
Paul Scherrer Institut | 299 |
2 |
Siemens AG | 24990 |
1 |
Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | 1282 |
1 |
Lawrence Livermore National Security, LLC | 1834 |
1 |
Cornell University | 3036 |
1 |
Elekta Limited | 178 |
1 |
Gigaphoton Inc. | 1120 |
1 |
INFICON, Inc. | 66 |
1 |
ION Beam Applications S.A. | 187 |
1 |
Muons, Inc. | 24 |
1 |
Nuctech Company Limited | 1275 |
1 |
The Science and Technology Facilities Council | 54 |
1 |
Technische Universitat Darmstadt | 258 |
1 |
China Institute of Atomic Energy | 30 |
1 |
IPRBOX Oy | 9 |
1 |
Aima Developpement | 7 |
1 |
Autres propriétaires | 3 |